能邦科技 | 光電濕製程設備

光電半導體濕製程設備

本公司提供光電半導體製程設備，包含光阻勻膠機 (Spin coater)、刮刀式塗佈機 (Slit Coater)、顯影機 (Developer)、濕製程化學工作站 (Wet Bench)….等。

可用於產業涵蓋半導體、光電業、能源產業、LED 面板業....等。客戶範圍包含兩岸大專院校、學術單位、知名上市公司。除標準機產品，也可配合客戶製程需求製作客製化機台。

本公司亦可以為客戶做客製化設備。塗佈技術涵蓋旋轉塗佈(Spin coater)、狹縫& 旋轉塗佈機 (Slit-Spin Coater)以及自動噴霧塗佈機 (Auto Spray coating system)等。能全面解決客戶在塗佈上的問題。

2-6 吋桌上型旋轉機(2”-6” desktop Spin coater)

本體 : 耐酸鹼 PP
基板尺寸 : 2”-6”
主軸轉速 : 10-8000 RPM (± 3RPM Max.)
真空吸盤 : Dia 0.5”、1” (標配)，另可客製化製作
參數記憶 : 10 組
參數段數 : 10 段
機台尺寸 : 300mm(L) x 450mm(D) x 380mm(H)

濕製程化學工作站(Wet Chemical Bench)

本公司能配合客戶製程需求，特別製作客製化濕式化學工作檯 (Wet Bench )，作為客戶製程上的最佳幫手。

客戶可選擇超音波清洗槽、消防安全CO2 防火保護、Hot plate、自動手臂、濕式耐酸鹼化學槽、 DI Rinse等硬體配備，配合PLC 人機控制，作磊晶黃光製程的清洗、顯影、蝕刻的工序。